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阻抗分析儀數(shù)據(jù)漂移問題診斷與校準(zhǔn)策略探討

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滿足各種掃描電鏡導(dǎo)電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求

更新時(shí)間：2026-01-30

產(chǎn)品型號(hào)：INS-H32MTC

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高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀

單靶濺射、雙靶共濺、交替濺射

更新時(shí)間：2026-01-30

產(chǎn)品型號(hào)：INS-H12MC

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高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀

多功能樣品臺(tái)支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能

更新時(shí)間：2026-01-30

產(chǎn)品型號(hào)：INS-H20TC

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雙靶磁控濺射鍍膜儀

單靶濺射、雙靶共濺、交替濺射

更新時(shí)間：2026-01-30

產(chǎn)品型號(hào)：INS-12MC

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高真空磁控濺射鍍膜儀

配備防污染系統(tǒng)提高樣品鍍膜效果

更新時(shí)間：2026-01-30

產(chǎn)品型號(hào)：INS-H11MC

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鍍金鍍碳一體機(jī)

磁控濺射+熱蒸發(fā)鍍碳雙功能

更新時(shí)間：2026-01-30

產(chǎn)品型號(hào)：INS-32MTC

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