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CVTD 材料氣相輸運與沉積系統CVTD 材料氣相生長輸運與沉積系統，可以滿足塊體、粉末、薄膜等樣品真空 ( 保 護氣氛下 ) 合成生長制備，廣泛適用于低維材料 (0D/1D/2D)、磁性材料、熱電材料、能源材料、光電材料、半導體 材料，金屬材料、超導材料等材料器件生長制備，已經被全球眾多高校、科研院所和企業使用，成為眾多先進材料實驗研發的儀器。

大尺寸臺式熱原子層沉積系統 ALD 安瑞克(ANRIC)技術公司開發的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反應，即依次將前驅體引入到基底上，每次循環形成一層原子級薄膜。這種精確的控制使得能夠沉積出無缺陷且可重復的超薄薄膜，從光滑表面到復雜的三維結構(如溝槽、多孔材料、纖維、膜和納米管)都能實現。

市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統 兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

勻膠機有很多種稱謂，英文叫SpinCoater或者SpinProcessor，又稱甩膠機、勻膠臺、旋轉涂膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂層機、旋轉涂布機、旋轉薄膜機、旋轉涂覆儀、旋轉涂膜儀、勻膜機，總的來說，他們原理都是一樣的，即在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關

小批量應用的流延機，適合250mm載帶寬度，采取重力供應漿料方式

CAM-C系列流延機面向較少資金投入的客戶設計，提供了更高的自動化水平，更高的精度和緊湊型設計，是一個真正創新型流延機